公司自主研发的HoFCVD设备是新一代真空镀膜领域的革命性技术。该设备成功攻克了在 “超高质量、超低温、超大面积、超高性价比”极限条件下，实现硅、氮化硅、金刚石、氧化铝及高性能聚合物（如PTFE、PGMA）等纳米级功能薄膜高效制备的世界性难题，为光伏、显示、光学、半导体及军工等产业升级提供了变革性的装备解决方案。当前，公司设备已导入多家行业头部企业，同时获得汇川技术等十余家专业投资机构投资。市场与资本的双重驱动，正推动公司迈入体系化、规模化发展的全面加速新阶段。